简析电子束热处理技术的特点及原理

　　电子束热处理起源

　　我国电子束热处理技术起源于上世纪70年代，前期的使用主要是于薄钢带、钢丝的接连退火，,能量密度最高可达10瓦／公分。

　　特点

　　电子束外表淬火除应在真空中进行外,其他特色与激光一样。电子束热处理加热速度快，奥氏体化的时刻仅零点几秒乃至更短，因此工件外表晶粒很细，硬度比通常热处理高，并具有杰出的力学性能。

　　技术原理

　　当电子束炮击金属外表时，炮击点被敏捷加热。电子束穿透资料的深度取决于加快电压和资料密度。例如,150千瓦的电子束在铁外表上的理论穿透深度大约为0.076毫米；在铝外表上则可达 0.16毫米。电子束在很短时刻内炮击外表，外表温度敏捷升高，而基体仍坚持冷态。当电子束中止炮击时，热量敏捷向冷基体金属传导，从而使加热外表自行淬火。

　　注意事项

　　为了有效地进行"自冷淬火"，整个工件的体积和淬火表层的体积之间至少要坚持5∶1的份额。外表温度和淬透深度还与炮击时刻有关。

　　70年代开端研讨和使用。前期用于薄钢带、钢丝的接连退火,能量密度最高可达10瓦／公分。电子束外表淬火除应在真空中进行外,其他特色与激光一样。当电子束炮击金属外表时，炮击点被敏捷加热。电子束穿透资料的深度取决于加快电压和资料密度。例如,150千瓦的电子束在铁外表上的理论穿透深度大约为0.076毫米；在铝外表上则可达 0.16毫米。电子束在很短时刻内炮击外表，外表温度敏捷升高，而基体仍坚持冷态。当电子束中止炮击时，热量敏捷向冷基体金属传导，从而使加热外表自行淬火。

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